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专利金属电极层在P3划线划线位掩膜断开连接方昇光电申请利用掩膜制备薄膜太阳能电池方法
作者:管理员    发布于:2026-04-04 09:00   文字:【】【】【

  专利摘要显示,利用掩膜制备薄膜太阳能电池的方法及薄膜太阳能电池,其中利用掩膜制备薄膜太阳能电池的方法,包括:在基板的上表面设置P1划线划线划线位;在基板的上表面设置ITO层;去除P1划线位掩膜;在ITO层背向基板的一侧上设置P2划线划线划线划线划线划线划线位;在ITO层背向基板的一侧上设置功能层;P2划线位掩膜的厚度尺寸不小于功能层高度尺寸;去除P2划线位掩膜;在功能层背向基板的一侧设置金属电极层,金属电极层在P3划线划线位掩膜断开连接;去除P3划线位掩膜。

  天眼查资料显示,苏州方昇光电股份有限公司,成立于2008年,位于苏州市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1412.9335万人民币。通过天眼查大数据分析,苏州方昇光电股份有限公司共对外投资了2家企业,参与招投标项目98次,财产线条,此外企业还拥有行政许可4个。

  声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。

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