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方昇光电申请利用掩膜制备薄膜太阳能电池方法专利金属电极层在P3划线划线位掩膜断开连接
作者:管理员    发布于:2026-03-18 05:42   文字:【】【】【

  专利摘要显示,利用掩膜制备薄膜太阳能电池的方法及薄膜太阳能电池,其中利用掩膜制备薄膜太阳能电池的方法,包括:在基板的上表面设置P1划线划线划线位;在基板的上表面设置ITO层;去除P1划线位掩膜;在ITO层背向基板的一侧上设置P2划线划线划线划线划线划线划线位;在ITO层背向基板的一侧上设置功能层;P2划线位掩膜的厚度尺寸不小于功能层高度尺寸;去除P2划线位掩膜;在功能层背向基板的一侧设置金属电极层,金属电极层在P3划线划线位掩膜断开连接;去除P3划线位掩膜。

  天眼查资料显示,苏州方昇光电股份有限公司,成立于2008年,位于苏州市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1412.9335万人民币。通过天眼查大数据分析,苏州方昇光电股份有限公司共对外投资了2家企业,参与招投标项目98次,财产线条,此外企业还拥有行政许可4个。

  声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。

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